在化工湿法研磨分散中，我们常遇到研磨细度不均或者说达不到细度，其中改善研磨细度的方式有很多，比如说设备问题、助剂等方式来改善。那么今天摩登7小编就来带大家一起认识下具体的细节，让大家更清楚知道研磨细度是可以这么来解决的。

首先外在原因有分散剂的添加和原料粒径等原因，这里我们主要讲分散剂对研磨细度的影响。在摩登7平台中，物料颗粒的粉碎首先主要是依靠高速运动的研磨介质珠子间的碰撞、挤压、剪切实现物料颗粒的粒度变小，比表面积增大。在粒度逐渐细化的过程中，颗粒在范德华力、双电层静电作用等影响下会重新团聚。

因此，可以认为颗粒超细粉碎到一定程度后，伴随着一系列颗粒微观上理化特性的质变，就会出现一个“粉碎⇌团聚”的可逆过程。当这正反两个过程的速度相等时，便达到了粉碎过程中的动态平衡，则颗粒尺寸达到极限值。此时，进一步延长粉碎时间是徒劳的。因为这时的机械力已不足以解聚团聚体使颗粒进一步破碎，只能用于维持粉碎平衡，并有可能造成更多小颗粒团聚体，于是，所谓的“逆研磨”、“返粗”现象就会出现。从某种程度上说，分散剂的恰当选择是解决“逆研磨”、“返粗”现象唯一的行之有效的途径。分散剂可以影响颗粒之间的范德华力、双电层静电力、溶剂化膜和吸附层的空间斥力诸作用。

所以，超细研磨过程中分散剂的选择是一项复杂而且难度大的工程，必须综合考虑方方面面的因素，只有在保证分散剂对产品性能及体系无任何影响的情况下，选择合适的分散剂及其用量，减少超细研磨浆料中颗粒之间软团聚体，使颗粒在体系中分散稳定，摩登7平台的研磨细度才能实现。

其次就是内在原因，设备摩登7平台本身结构及技术上的设计。摩登7平台作为一种高效节能的超细粉碎设备，最近十几年来得到了迅速发展。但是不同厂家产的设备各有不同，同一厂家生产的不用型号的设备其研磨细度也是不一样的。我们今天就先从研磨介质这块来讲吧。以涂料色浆研磨工艺为例，研磨介质的大小决定了研磨介质与色浆的接触点的多少，粒径小的研磨介质在相同体积下的接触点越多，理论上的研磨效率越高；

但另一方面，在研磨初期颜料粒径较大时，研磨介质粒径小的冲量较小，达不到较好的研磨效果；研磨后期，大粒径的研磨介质由于接触点少，能量密度不足，导致粒径分布比小尺寸研磨介质差，细度不理想。

最后就是根据摩登7品牌多年对上千家客户的解决经验，生产的N系列纳米摩登7平台，采用的离心分离装置，可以使用0.1mm以上研磨介质。机身更优的设计，在机器性能上可以更好的实现更细物料的研磨。能满足大部分客户的要求。但是也有一些要求更高的客户，我这就不得不介绍下我们另外一款设备M系列立式摩登7平台，这款设备可以填充0.1mm以下研磨介质，应用范围涵盖了柔性分散至高能研磨。

所以不管卧式摩登7平台还是立式摩登7平台对纳米级的研磨，摩登7品牌生产厂家已经是种类齐全，型号规格对不同需求客户的满足提供了有力保障。同时也可以根据客户需求来对分散剂等助剂方案提供参考方案，避免整套工艺流程的完善和便捷！

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